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單溫區(qū)PE-CVD系統(tǒng)采用高性能射頻電源，等離子體更穩(wěn)定；滑軌式結構能使整個反應腔室都處于輝光產生區(qū)；可實現快速升溫和降溫功能；與傳統(tǒng)CVD相比較，生長溫度更低。

1500單溫區(qū)管式爐采用硅碳棒為加熱元件，額定溫度1500℃，溫度可達1450℃。采用宇電控溫儀表和S型熱電偶，可編程30段程序控溫，控溫精度±1℃。設備中包含一套316L不銹鋼快開法蘭，雙環(huán)密封技術，可應用于CVD實驗、熒光粉制備、真空或氣氛下材料燒結、基片鍍膜等實驗環(huán)境。

實驗室回轉窯本裝置由控制中心，加熱爐主體，攪拌系統(tǒng)，平移裝置及進氣系統(tǒng)組成

實驗級單溫區(qū)立式管式爐 爐體表面溫度≤60℃，爐膛采用高純度氧化鋁微晶纖維高溫真空吸附成型。專為高等院校﹑科研院所的實驗室及工礦企業(yè)在可控多種氣氛及真空狀態(tài)下對金屬，非金屬及其它化合物進行燒結﹑熔化﹑分析而研制的專用理想設備。

微型立式管式爐TFV-1200-30-200是一款小型開啟式立式管式爐，其爐管直徑為φ30/50mm可選，適合于對樣品在真空或氣氛保護環(huán)境下吊燒和淬火。如果選用不同的配件與裝置搭配，其也可以當作一款流化床立式管式爐來使用，可專門針對粉末表面沉積的CVD實驗。

球管玻璃爐BG350以其特殊的設計和簡便的操作，為實驗室物料的分離純化工作提供了解決方案。根據配置的不同，可對小量物料進行蒸餾、分餾、升華和冷凍干燥等分離操作。產品使用帶有導電涂層的石英管作為加熱元件，加熱快且易于觀察，可以將整個烘爐區(qū)域加熱到最高300℃。此外，透明的樣品區(qū)域便于進行實時觀察，如果樣品有熱降解的跡象,可手動中斷加熱過程。